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01
2026
-
09
铜箔粗糙度波动改变 PCB 特性阻抗采用激光显微镜与白光干涉...
高频印制电路板(High-Frequency PCB)高速信号传输受趋肤效应(Skin Effect)主导,信号电流仅沿铜箔表层微区传导。铜箔粗糙度波动(Fluc...
铜箔粗糙度波动改变 PCB 特性阻抗采用激光显微镜与白光干涉仪对比检测
01
2026
-
09
芯片 硅基晶圆 (Silicon Wafer)基底粗糙度超...
硅基晶圆(Silicon Wafer)基底粗糙度是芯片制造核心质控指标,粗糙度超标会直接引发栅氧层漏电、外延层缺陷、光刻套刻精度偏差等良率损耗问题,异常根源主要集...
芯片  硅基晶圆 (Silicon Wafer)基底粗糙度超标,白光干涉仪排查晶圆抛光 (Wafer Polishing) 工艺异常
31
2026
-
08
RaRzRqRsk 轮廓参数(RaRzRqRsk Profi...
表面轮廓粗糙度参数是精密机械、光学器件加工的核心质量指标。行业主流采用白光干涉仪(White Light Interferometer, WLI)开展无损高精度检...
RaRzRqRsk 轮廓参数(RaRzRqRsk Profile Parameters)解读,采用白光干涉仪测量方案
24
2026
-
08
ISO 10110/14577/21920 标准解读,采用白...
在光学、半导体与精密制造领域,ISO 10110、ISO 14577、ISO 21920三项国际标准,分别对应光学元件图纸标注、仪器化压痕检测、二维轮廓表面纹理管...
ISO 10110/14577/21920 标准解读,采用白光干涉仪测量方案
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