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10
2026
-
09
白光干涉仪测量精度易实现,大视场 高精度协同更具学术价值
白光干涉仪(White Light Interferometer, WLI)依托短相干干涉原理,亚纳米级垂直测量精度较容易在小视场条件下达成。小视场检测模式多用于...
白光干涉仪测量精度易实现,大视场 高精度协同更具学术价值
10
2026
-
09
芯片浅沟槽隔离 (Shallow Trench Isolat...
浅沟槽隔离(Shallow Trench Isolation, STI)是CMOS器件核心电学隔离结构,核心原理为依托沟槽内填充氧化层,实现芯片有源区之间的绝缘隔...
芯片浅沟槽隔离 (Shallow Trench Isolation,STI)内壁粗糙度异常,白光干涉仪消除漏电风险 (Leakage Risk)
09
2026
-
09
USI白光扫描:多层微纳工件形貌检测数据异常(Data Ab...
本文基于设备原厂手册、公开招标技术资料,针对半导体微纳多层结构(Semiconductor Micro-Nano Multilayer Structure)形貌检...
USI白光扫描:多层微纳工件形貌检测数据异常(Data Abnormality)机理分析
09
2026
-
09
芯片 金属布线层 (Metal Wiring Layer)...
先进芯片高速互联电路工作于GHz频段,受趋肤效应(Skin Effect)影响,高频信号电流仅在金属布线表层薄层完成传输。芯片金属布线层(Metal Wiring...
芯片  金属布线层 (Metal Wiring Layer)粗糙度超标,白光干涉仪改善高速传输 (High-speed Transmission) 电路性能
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