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28
2026
-
05
白光干涉仪排查微透镜成型制程曲率半径偏差隐患解决方案
一、行业制程痛点与检测需求微透镜及微透镜阵列是光电成像、光纤耦合、光传感、半导体光学系统的核心精密元件,曲率半径作为其核心几何参数,直接决定元件聚焦性能与成像质...
白光干涉仪排查微透镜成型制程曲率半径偏差隐患解决方案
28
2026
-
05
白光干涉仪高精度表征下超光滑样品表面瑕疵与工艺误差关联性研究
一、研究背景与检测技术优势超光滑样品是极紫外光学元件、半导体晶圆、高能激光器件等高端领域的核心基材,其表面微观划痕、麻点、凹凸缺陷及全域面形误差,会直接降低光学...
白光干涉仪高精度表征下超光滑样品表面瑕疵与工艺误差关联性研究
28
2026
-
05
白光干涉仪高精度检测技术 严控光伏激光划线深度与薄膜分层良率
一、光伏量产检测痛点薄膜光伏量产的核心工序为P1/P2/P3激光结构化划线,是实现电池单片互联的关键工艺。光伏薄膜为多层堆叠结构,生产过程中易出现划线深度异常、...
白光干涉仪高精度检测技术 严控光伏激光划线深度与薄膜分层良率
27
2026
-
05
USI 白光扫描:多层微纳工件形貌检测数据异常(Data A...
本文基于商用白光干涉设备官方技术手册、半导体微纳检测国标规范及公开招标技术参数,分析USI(通用扫描干涉,Universal Scanning Interfer...
USI 白光扫描:多层微纳工件形貌检测数据异常(Data Abnormality)机理分析
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