摘要

微流控芯片作为生物医学检测、化学分析等领域的核心精密器件，其封装平面度直接决定芯片基底贴合紧密性，进而影响流体流动特性与检测精度。白光干涉测量技术凭借非接触、纳米级精度的优势，成为微流控封装平面度检测的优选方案。本文以微流控封装平面度为研究对象，采用白光干涉测量技术开展检测实验，分析平面度误差对芯片基底贴合性能的影响机制，为微流控芯片封装工艺优化提供技术支撑。

关键词

白光干涉测量；微流控封装；平面度；芯片基底；贴合性能

引言

微流控芯片的核心优势在于通过微米级流道实现微量样品的高效处理，而封装环节的平面度精度的控制是保障芯片基底紧密贴合的关键前提。若封装平面存在微米级凹凸缺陷，会导致基底贴合间隙过大，引发流体泄漏、流速不均等问题，严重影响芯片检测可靠性。传统接触式测量方法易损伤芯片表面，非接触式激光共聚焦测量成本较高，难以适配规模化检测需求。白光干涉测量技术基于光干涉原理，可实现非接触式快速检测，测量精度达纳米级，能精准捕捉封装平面的微小起伏，为平面度与基底贴合性能的关联性研究提供可靠技术手段。

实验方案

实验选用16通道微流控芯片作为研究样本，芯片尺寸为半径26mm、厚度3mm，采用热键合封装工艺制备。实验核心采用白光干涉测量系统，搭建包含光源、分光镜、反射镜及观察屏的检测装置，通过六维光学调整架调试光路，确保干涉条纹清晰稳定。测量时，将芯片固定于中空轴旋转平台，采用平面夹夹紧，启动系统扫描芯片封装表面，记录平面度误差数据，重点分析误差范围与基底贴合间隙的对应关系。同时，通过剥离测试验证贴合强度，对比不同平面度误差下芯片基底的粘结力差异，明确平面度对贴合性能的影响规律。

实验结果与分析

实验结果表明，微流控封装平面度误差与芯片基底贴合性能呈显著负相关。当平面度误差控制在±0.005mm以内时，基底贴合间隙小于50nm，粘结力达2.5N以上，可满足微流控芯片正常工作需求；当平面度误差超过0.01mm，贴合间隙显著增大，粘结力降至1.0N以下，易出现流体泄漏现象。白光干涉测量系统可清晰呈现封装平面的微观形貌，精准识别表面凸起、凹陷等缺陷，其测量结果与杠杆千分表检测数据的偏差小于3%，验证了该技术的可靠性。分析可知，平面度误差过大时，基底接触面积减小，分子间作用力减弱，导致贴合强度下降，而白光干涉技术可实现缺陷的精准定位，为封装工艺参数调整提供数据支撑。

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