光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品
发布时间:
2026-08-06
作者:
新启航半导体有限公司

光学镜片(Optical Lens)量产加工过程中,受超精研磨、抛光工艺误差、工装夹持应力、环境粉尘及清洗工艺影响,极易产生各类微观形貌缺陷。常见缺陷包含微观划痕(Micro-scratch)、麻点(Pitting)、表面微凸起、亚表面裂纹(Subsurface Crack)及面形微畸变等,这类微米、纳米级缺陷具备隐蔽性强、批量高发的特点。

传统目视检测、普通轮廓仪检测方式分辨率有限,仅能识别宏观破损,无法量化微观形貌误差。镜片微小形貌缺陷会引发光束散射(Beam Scattering)、波前畸变(Wavefront Distortion),改变光路传播轨迹,导致镜头成像清晰度下降、杂散光增加,严重影响车载镜头、安防光学镜头等精密量产产品的成像一致性与使用可靠性。

白光干涉仪(White Light Interferometer, WLI)基于短相干干涉原理,可实现非接触式、无损的三维微观形貌检测,能够全维度采集镜片表面粗糙度(Surface Roughness)、面形精度、微观缺陷尺寸与分布数据,精准捕捉量产过程中的隐性工艺缺陷。

通过该设备的全域检测数据,可反向优化抛光转速、研磨粒度、清洗流程等量产工艺参数,建立标准化缺陷筛查机制,有效抑制微观形貌缺陷批量滋生,稳定镜头量产良品率,是光学镜头规模化精密质控的核心检测设备。


光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品

光学镜片实测应用图示及说明(工业及半导体专属)


光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品

(图示为光学镜片关键指标:含平面度误差(Flatness Error)、峰值谷值(Peak-Valley, PV)、均方根值(Root Mean Square, RMS),精准把控镜片平面精度,保障镜片光学性能稳定,适配半导体光学镜片检测需求)


光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品

(图示为表面粗糙度(Surface Roughness, Ra):精度达6pm=0.006nm,精准表征镜片表面光滑度,适配高精度光学镜片、半导体光学窗口片检测需求,规避表面粗糙导致的光学损耗)


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(图示为实测涂层厚度(Coating Thickness):75.2nm,精准测量光学镜片涂层厚度,助力涂层工艺优化(Coating Process Optimization)与质量管控,保障镜片抗反射、抗磨损等性能)


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(图示为涂层表面质量3D形貌图(3D Morphology Map of Coating Surface Quality),清晰呈现涂层表面状态,及时发现涂层划痕、脱落、气泡等缺陷(Defect),为工艺改进提供数据支撑)

大视野3D白光干涉仪

大视野3D白光干涉仪,聚焦光学镜片(Optical Lens)精密测量,打造纳米级(Nanoscale)测量全域解决方案,突破传统测量局限,定义光学镜片检测新范式,以高效、精准的测量能力,适配光学镜片全流程检测需求,为工业光学、半导体光学器件(Semiconductor Optical Devices)等领域提供全方位技术支撑。


光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品

设备凭借核心创新技术,一机解锁纳米级全场景测量,重新诠释精密测量(Precision Measurement)的高效与精准,助力光学镜片生产、加工环节的质量管控(Quality Control),保障镜片光学性能(Optical Performance)达标,适配半导体光学组件、精密光学仪器等高端场景需求。


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核心优势:大视野+高精度,突破行业局限

打破行业常规壁垒,解决传统设备1倍以下物镜(Objective Lens)仅能单孔使用、需两台仪器分别实现大视野与高精度测量(High-Precision Measurement)的痛点。设备搭载全新0.6倍轻量化镜头,配备15mm超大单幅视野(Single Frame Field of View),搭配可兼容4个物镜的转塔鼻轮(Turret Nose Wheel),一台设备即可全面覆盖大视野观测与高精度测量需求,无需频繁切换设备,大幅提升检测效率(Inspection Efficiency)与数据精准度(Data Accuracy),完美适配光学镜片复杂测量场景。

光学镜片微观形貌缺陷频发,白光干涉仪全维度把控镜头量产品

新启航半导体|专业白光干涉 3D 轮廓测量方案。亚纳米精度保障,支持自动化定制;高端系列对标国际一线品牌,大视野设计,轻松应对高低反射、复杂材料测量场景。

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