实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度
发布时间:
2026-06-30
作者:
新启航半导体有限公司

多层陶瓷电容器(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC)端电极银浆(Silver Paste)涂布厚度是决定器件焊接强度、电气稳定性及量产良率的核心工艺参数。随着008004超微型MLCC批量应用,传统二维自动光学检测(Automatic Optical Inspection, AOI)仅可实现平面尺寸检测,缺失垂直高度三维数据,无法满足微米级精密制程质控标准。


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实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

光学3D轮廓仪(Optical 3D Profilometer)搭载标准化白光干涉技术(White Light Interferometry, WLI),严格遵循ISO 25178三维表面形貌检测国标,采用非接触式无损检测模式,可彻底规避接触测量导致的MLCC微型坯体崩裂、银浆涂层形变等工艺损伤。依据工业公开招标及设备厂商官方参数,设备高度检测分辨率可达纳米级,可精准适配MLCC端电极1μm~3μm常规银浆涂布厚度区间,厚度偏差检测精度可达±0.2μm,完全匹配高端量产微米级质控要求。

实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

该设备可量化银浆膜厚、表面粗糙度(Roughness Average, Ra)、涂布平整度、电极爬坡轮廓等多维工艺指标,精准识别薄涂、厚涂、局部缺料、涂布不均等隐性缺陷,有效弥补传统二维检测的三维数据盲区。该精密检测方案可稳定统一MLCC端电极制程精度,保障叠层电容结构一致性,降低制程不良率,为半导体封装(Semiconductor Packaging)、高端消费电子领域的精密MLCC量产提供标准化、可溯源的质量管控支撑。



实现工业微米级精密检测(Micron-level Precision Detection),采用光学 3D 轮廓仪测量 MLCC 银浆厚度

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