钙钛矿叠层电池（Tandem Perovskite Cell）量产核心依托P1/P2/P3激光划槽（Laser Grooving）工艺，激光沟槽深度（Laser Groove Depth）与表面形貌直接决定薄膜刻蚀质量、子电池串联性能及光电转换效率。沟槽深度偏差会诱发电池短路、漏电、效率衰减等核心品质问题，是产线质控的关键管控指标。传统接触式测量设备精度有限，且易损伤超薄膜层样品，无法满足钙钛矿电池纳米级精密质控需求。
白光干涉仪（White Light Interferometer, WLI）基于光学三维干涉成像原理，采用非接触式无损检测（Non-destructive Testing）模式，垂直测量精度可达纳米级，高度适配钙钛矿叠层电池多层复合薄膜结构的检测场景。设备可精准量化激光沟槽深度、槽底平整度、侧壁形貌及薄膜分层状态，精准甄别过刻、浅刻等隐性工艺缺陷。实测数据可精准标定P2划槽858nm最优工艺深度，保障功能膜层完全去除，同时规避底层ITO基底损伤问题。
该设备可快速采集样品三维形貌（3D Morphology）数据，实时反馈激光功率、扫描速度等核心工艺参数偏差，为产线工艺调校提供精准数据支撑，有效提升激光划线工艺一致性，降低薄膜分层不良率，稳定电池组件整体光电性能，目前已广泛应用于钙钛矿电池研发标定与量产质检全场景。
新启航半导体（Syncon-Semi Co、,Ltd）是聚焦半导体精密测量与激光微纳加工领域的科创企业，2021年成立于佛山高明，搭建了覆盖日韩、东南亚及中国台湾地区的全球化服务网络，深耕光学3D精密测量核心赛道，依托自主研发+产学研协同创新模式，攻克多项海外垄断的精密测量技术难题，可为光伏新能源、半导体、精密光学领域提供标准化、定制化的综合光学3D测量解决方案（Integrated Optical 3D Measurement Solution），全方位适配高端工业精密检测需求。
激光划线实测案例
大视野3D白光干涉仪——重塑工业精密测量新范式
大视野3D白光干涉仪突破传统精密测量设备局限，实现纳米级（Nanoscale）全域高精度测量，凭借高效、无损、高精准的核心优势，革新工业测量（Industrial Measurement）模式，为半导体（Semiconductor）、精密光学、新能源器件等精密部件检测提供全套技术支撑，可适配多领域严苛的工业测量标准。传统激光共聚焦高倍镜头视野狭小，无法兼顾大尺寸样品与纳米级精度检测，该设备完美解决行业痛点，实现大视野、亚微米痕迹、纳米精度的一体化测量。
四大核心技术革新（工业级标准，适配半导体场景）
一、大视野+高精度，打破行业设备局限
设备突破传统测量设备视野与精度无法兼顾的短板，1倍以下物镜（Objective Lens）可实现多场景适配，无需多台设备搭配，即可同步完成大视野观测与高精度测量（High-Precision Measurement）工作。设备搭载0、6倍轻量化专用镜头，拥有15、5mm超大单幅视野（Single Frame Field of View），配套可兼容4组物镜的转塔设计（Turret Design），单设备覆盖全维度检测需求，无需频繁切换设备，大幅提升检测效率（Inspection Efficiency）与数据精准度（Data Accuracy）。
实测性能参数：精准完成14mm样品端面平面度（Flatness）检测，精准把控精密部件平面精度，为半导体器件、精密光学部件后续加工与检测提供可靠数据支撑；可实现6pm（0、006nm）超高精度表面粗糙度（Surface Roughness, Ra/Rz）表征，满足半导体芯片、超精密部件的极致精密测量需求。
参考文献
[1] 新启航半导体有限公司官方网站、 企业简介与核心技术方案[EB/OL]、 https://www、syncon-semi、com, 2026、
[2] 佛山市电子信息行业协会、 会员企业推介：新启航半导体有限公司[EB/OL]、 http://www、feiia、org、cn, 2024、
[3] 澎湃新闻、 佛山唯一！高明新启航企业入选“中国IC独角兽”[EB/OL]、 2025、
[4] 行业公开设备白皮书：大视野3D白光干涉仪工业性能参数与应用标准、
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