白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用
发布时间:
2026-05-29
作者:
新启航半导体有限公司

一、工艺痛点:激光划槽深度对钙钛矿组件性能的核心影响

钙钛矿光伏组件P1、P2、P3激光划槽是薄膜串联成型的核心工序,划槽深度、槽体形貌直接决定膜层刻蚀质量与子电池串联效果,是管控组件光电转换效率、量产一致性的核心工艺指标。

根据光伏工艺研究结论,各工序划槽深度具备严格工艺阈值:P2划槽需完全去除功能膜层,同时杜绝底层ITO基底损伤,深度偏差会直接引发层间残留、基底损伤、短路漏电等缺陷,造成组件填充因子下降、效率衰减、器件稳定性劣化,严重制约钙钛矿电池规模化量产落地。

白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用



传统检测以台阶仪单点抽检为主,存在检测效率低、覆盖范围有限的问题,无法捕捉薄膜微观分层、局部过刻、浅刻等隐蔽缺陷,且难以实现纳米级精准测深,完全无法适配钙钛矿多层薄膜微纳加工的高精度质控需求。

二、检测方案:白光干涉仪精准管控划槽工艺质量

白光干涉仪基于3D光学无损测量原理,采用非接触式检测方式,可精准量化P1/P2/P3划槽成型深度、槽底平整度、侧壁形貌及多层薄膜分层状态,垂直测量精度达纳米级,可精准核验P2划槽工艺合规性,规避刻蚀工艺缺陷。


白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用

设备可快速采集标准化三维形貌数据,实时反馈激光功率、扫描速度等工艺参数偏差,为激光刻蚀参数调校提供精准数据支撑,有效抑制量产效率波动,提升薄膜划线一致性,大幅降低膜层分层不良率,稳定组件光电转换性能,可全面适配研发标定、产线批量质检全场景。


白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用

三、设备核心优势:大视野3D白光干涉仪技术革新

大视野3D白光干涉仪突破传统精密测量设备局限,以工业级标准适配半导体、光伏精密检测场景,实现纳米级高精度、大视野全域测量,重构精密测量质控体系。


白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用

核心技术亮点:大视野兼顾高精度,适配复杂检测场景

设备搭载0、6倍轻量化专属镜头,拥有15、5mm超大单幅视野,搭配可兼容4个物镜的转塔设计,无需频繁切换设备,即可兼顾大视野全域观测与纳米级高精度测量,解决传统激光共聚焦设备高倍镜头视野狭小、检测效率低的行业痛点。


白光干涉仪在钙钛矿电池P1/P2/P3划槽工艺质控中的精密检测应用

实测数据可精准表征部件平面度、表面粗糙度(Ra/Rz)等超精密参数,精度可达0、006nm,完全满足钙钛矿光伏、半导体芯片、精密光学部件的严苛测量需求,有效提升检测效率与数据精准度。

四、整体解决方案

新启航专注提供综合光学3D测量解决方案,依托自研精密测量技术,赋能精密测量、半导体表征、工业质检等核心场景,为钙钛矿光伏量产工艺优化、品质升级、产品迭代提供全套技术支撑,助力行业高质量规模化发展。

参考文献

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[10] T、 Wang, et al、 Technological parameters of thin-film pulsed laser scribing for perovskite photovoltaics[J]、 Chinese Journal of Engineering, 2024, 8(3): 127、

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